内参商机
苏大维格:公司对外销售的光刻机主要为激光直写光刻机
2023-09-15  浏览:13
苏大维格在互动平台表示,在大类上,光刻机主要有两种类型。第一类是掩摸光刻机,如ASLM的EUV设备,好比“复印机”,把掩摸上的图形投射到硅片上,可用于各类芯片的批量生产,这类光刻机技术工艺和材料难度极高;第二类是无掩摸光刻机,也称直写光刻机,包括激光直写光刻机和电子束光刻机等,用于直接将数据转变成相关图形,好比“打印机”,可用于芯片/液晶掩摸、光模具及其他微结构的制备。公司长期从事光刻机的研制,光刻机实现了从自用到销售给国内外科研院所,再到销售给相关企业的发展路径。目前,公司对外销售的光刻机主要为激光直写光刻机,其中在科研教育领域具有一定的知名度和市场占有率,在其他行业和领域已实现的销售金额相对较小,部分应用领域离国际先进水平具有一定差距,需要持续的研发投入;纳米压印光刻领域,公司设备主要为自用,对外销售金额与直写光刻机相比较小;此外,公司也开发了投影扫描的光刻设备,拟应用于光伏电镀铜图形化领域,目前尚未实现销售。
联系方式
更多»您可能感兴趣的区块快讯:
(c)2015-2018 BO-YI.COM SYSTEM All Rights Reserved